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一种用于激光背面测试CMOS图像芯片的封装方法研究
一种用于激光背面测试CMOS图像芯片的封装方法研究
作者:
史海军
叶红波
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
集成电路制造
CMOS图像芯片封装
PLCC封装
激光背面测试
DOE实验优化
键合
摘要:
研究方向是最终用于激光背面测试的CMOS图像芯片PLCC封装方法,通过采用DOE实验优化的方法,以封装工艺中键合的实际键合效率为依据,得出了关于封装中底部压块设计的最优方案,以确保CMOS图像芯片封装可以稳定高效地完成.
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篇名
一种用于激光背面测试CMOS图像芯片的封装方法研究
来源期刊
集成电路应用
学科
关键词
集成电路制造
CMOS图像芯片封装
PLCC封装
激光背面测试
DOE实验优化
键合
年,卷(期)
2020,(1)
所属期刊栏目
工艺与制造|Process and Fabrication
研究方向
页码范围
29-31
页数
3页
分类号
TN47|TN215
字数
语种
中文
DOI
10.19339/j.issn.1674-2583.2020.01.010
五维指标
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研究主题发展历程
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集成电路制造
CMOS图像芯片封装
PLCC封装
激光背面测试
DOE实验优化
键合
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
集成电路应用
主办单位:
上海贝岭股份有限公司
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-2583
CN:
31-1325/TN
开本:
16开
出版地:
上海宜山路810号
邮发代号:
创刊时间:
1984
语种:
chi
出版文献量(篇)
4823
总下载数(次)
15
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