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摘要:
研究方向是最终用于激光背面测试的CMOS图像芯片PLCC封装方法,通过采用DOE实验优化的方法,以封装工艺中键合的实际键合效率为依据,得出了关于封装中底部压块设计的最优方案,以确保CMOS图像芯片封装可以稳定高效地完成.
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文献信息
篇名 一种用于激光背面测试CMOS图像芯片的封装方法研究
来源期刊 集成电路应用 学科
关键词 集成电路制造 CMOS图像芯片封装 PLCC封装 激光背面测试 DOE实验优化 键合
年,卷(期) 2020,(1) 所属期刊栏目 工艺与制造|Process and Fabrication
研究方向 页码范围 29-31
页数 3页 分类号 TN47|TN215
字数 语种 中文
DOI 10.19339/j.issn.1674-2583.2020.01.010
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研究主题发展历程
节点文献
集成电路制造
CMOS图像芯片封装
PLCC封装
激光背面测试
DOE实验优化
键合
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
集成电路应用
月刊
1674-2583
31-1325/TN
16开
上海宜山路810号
1984
chi
出版文献量(篇)
4823
总下载数(次)
15
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