电弧离子镀偏压对TiAlSiN涂层结构及性能的影响

• 作者: 代明江 宋智辉 李洪 林松盛 洪悦 石倩 苏一凡
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: TiAlSiN 离子镀 偏压 结合力 耐磨性 高温氧化
• 年，卷（期）: 2020,（9）
• 所属期刊栏目: 表面失效及防护
• 页码范围: 306-314
• 页数: 9页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2020.09.035

摘要

目的 探究脉冲偏压对TiAlSiN涂层结构及力学性能、耐磨性能、抗氧化性能的影响规律及机制.方法 采用阴极电弧离子镀膜技术,调控偏压参数并在M2高速钢上沉积TiAlSiN涂层,利用SEM、XRD、3D轮廓仪、金相显微镜、划痕仪、摩擦磨损试验仪等仪器及高温氧化试验,对涂层结构及性能进行分析表征.结果 偏压为50 V时,涂层主要为AlN相;偏压高于75 V时,涂层以固溶的(Ti,Al)N相为主,TiAlSiN涂层存在较强的(200)面择优取向.偏压由50 V增大至150 V时,涂层的致密性增加,表面粗糙度先降低后上升,涂层结合力先增大后降低.TiAlSiN涂层的磨损方式主要是磨粒磨损,受物相结构、涂层致密性的影响,偏压为100～150 V时,涂层的耐磨性能优异.涂层1000℃氧化4 h后,表面氧化程度不同,主要受物相结构、致密性、表面孔隙的多重影响,hcp-AlN相比(Ti,Al)N相更易氧化;偏压增大使得涂层沉积更为致密,氧化层深度变浅;涂层孔隙增加,表面形成的Al2O3团簇增多.结论 偏压100 V下TiAlSiN涂层的综合性能最优,涂层结合力为46.7 V,硬度为3276HV0.025,表面粗糙度最低,耐磨性能较好且高温下抗氧化性能最强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李洪		2	0	0.0	0.0
2	宋智辉		2	0	0.0	0.0
3	代明江		6	8	2.0	2.0
4	林松盛		4	2	1.0	1.0
5	洪悦		1	0	0.0	0.0
6	石倩		1	0	0.0	0.0
7	苏一凡		1	0	0.0	0.0