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单晶硅柱面反射镜离子束倾斜入射加工工艺优化
单晶硅柱面反射镜离子束倾斜入射加工工艺优化
作者:
宋辞
张坤
沈永祥
田野
石峰
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
光学设计
离子束
倾斜入射
单晶硅
柱面镜
去除效率
表面质量
摘要:
针对单晶硅柱面镜加工过程中面临的加工效率低、加工精度差以及表面质量难控等问题,提出采用离子束倾斜入射的方法来进行单晶硅柱面镜的加工工艺优化.通过建立离子束倾斜入射的去除函数理论模型,揭示去除效率同入射角度的关联规律;通过分析离子束倾斜入射的微观形貌作用机理,揭示表面质量同入射角度的关联规律;综合优化去除效率和表面质量,获得倾斜入射的最佳入射角度,并建立基于离子束倾斜入射的新工艺路线.在一块尺寸为100 mm×100 mm的单晶硅凸柱面镜上采用新工艺路线进行加工实验,结果表明:在保证加工精度和表面质量的情况下,加工时间节约53.7%,验证了离子束倾斜入射加工的先进性.
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篇名
单晶硅柱面反射镜离子束倾斜入射加工工艺优化
来源期刊
光学学报
学科
工学
关键词
光学设计
离子束
倾斜入射
单晶硅
柱面镜
去除效率
表面质量
年,卷(期)
2020,(12)
所属期刊栏目
光学设计与制造
研究方向
页码范围
161-171
页数
11页
分类号
TH162
字数
语种
中文
DOI
10.3788/AOS202040.1222001
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节点文献
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离子束
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单晶硅
柱面镜
去除效率
表面质量
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学学报
主办单位:
中国光学学会
中国科学院上海光学精密机械研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
0253-2239
CN:
31-1252/O4
开本:
大16开
出版地:
上海市嘉定区清河路390号(上海800-211信箱)
邮发代号:
4-293
创刊时间:
1981
语种:
chi
出版文献量(篇)
11761
总下载数(次)
35
总被引数(次)
130170
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