阴离子改性抛光剂对磷酸盐激光钕玻璃抛光的影响

• 作者: 刘伯勋 焦翔 谭小红 朱健强
• 来源期刊: 中国激光
• 关键词: 材料 化学机械抛光 磷酸盐激光钕玻璃 阴离子表面活性剂 材料去除率 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2020,（10）
• 所属期刊栏目: 材料与薄膜|Materials and Thin Films
• 页码范围: 113-117
• 页数: 5页
• 分类号: TG356.28
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL202047.1003001

摘要

为了改善氧化铈抛光液的性能,在不破坏钕玻璃表面质量的前提下提高钕玻璃的抛光效率,选择在氧化铈抛光液中加入阴离子表面活性剂雷米邦A,并研究了改性后的抛光液对氧化铈抛光液中粒子粒径、钕玻璃的材料去除率和抛光后钕玻璃表面质量的影响,分析了加入不同质量分数雷米邦A的抛光液在不同pH值下对钕玻璃抛光速率和抛光质量的影响.结果 表明:雷米邦A能够抑制抛光液中纳米粒子的团聚,降低氧化铈的中位粒径,提高抛光效率.当二氧化铈质量分数为3％、pH为6.5、雷米邦A质量分数为0.30％时,材料去除率达到最大值169 nm/min;当二氧化铈质量分数为3％、pH为7、雷米邦A质量分数为0.20％时,钕玻璃的表面粗糙度达到最小值0.9 nm.