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基于深紫外激光-光发射电子显微技术的高分辨率磁畴成像
基于深紫外激光-光发射电子显微技术的高分辨率磁畴成像
作者:
于广华
吕浩昌
姜勇
孙阳
张申金
张静言
朱照照
杨光
杨峰
沈保根
王守国
王志宏
王晶
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赵云驰
陆俊
魏红祥
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
光发射电子显微镜
深紫外激光
磁圆/线二色
高分辨磁成像
摘要:
基于磁二色效应的光发射电子显微镜磁成像技术是研究薄膜磁畴结构的一种重要研究手段,具有空间分辨率高、可实时成像以及对表面信息敏感等优点.以全固态深紫外激光(波长为177.3 nm;能量为7.0 eV)为激发光源的光发射电子显微技术相比于传统的光发射电子显微镜磁成像技术(以同步辐射光源或汞灯为激发源),摆脱了大型同步辐射光源的限制;同时又解决了当前阈激发研究中由于激发光源能量低难以实现光电子直接激发的技术难题,在实验室条件下实现了高分辨磁成像.本文首先对最新搭建的深紫外激光-光发射电子显微镜系统做了简单介绍.然后结合超高真空分子束外延薄膜沉积技术,成功实现了L10-FePt垂直磁各向异性薄膜的磁畴观测,其空间分辨率高达43.2 nm,与利用X射线作为激发源的光发射电子显微镜磁成像技术处于同一量级,为后续开展高分辨磁成像提供了便利.最后,重点介绍了在该磁成像技术方面取得的一些最新研究成果:通过引入Cr的纳米"台阶",成功设计出FePt的(001)与(111)双取向外延薄膜;并在"台阶"区域使用线偏振态深紫外激光观测到了磁线二色衬度,其强度为圆二色衬度的4.6倍.上述研究结果表明:深紫外激光-光发射电子显微镜磁成像技术在磁性薄膜/多层膜体系磁畴观测方面具备了出色的分辨能力,通过超高真空系统与分子束外延薄膜制备系统相连接,可以实现高质量单晶外延薄膜制备、超高真空原位传输和高分辨磁畴成像三位一体的功能,为未来磁性薄膜材料的研究提供了重要手段.
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文献信息
篇名
基于深紫外激光-光发射电子显微技术的高分辨率磁畴成像
来源期刊
物理学报
学科
关键词
光发射电子显微镜
深紫外激光
磁圆/线二色
高分辨磁成像
年,卷(期)
2020,(9)
所属期刊栏目
特邀综述
研究方向
页码范围
1-14
页数
14页
分类号
字数
7943字
语种
中文
DOI
10.7498/aps.69.20200083
五维指标
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
光发射电子显微镜
深紫外激光
磁圆/线二色
高分辨磁成像
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
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