正硅酸四乙酯修饰Fe3O4制备磁性有机硅氧氮分离膜及其性能研究

• 作者: 王傲生 徐积斌 白云翔 孙余凭 张春芳
• 来源期刊: 化工新型材料
• 关键词: 聚二甲基硅氧烷 磁性有机硅膜 界面空隙 O2/N2分离 磁场
• 年，卷（期）: 2020,（12）
• 所属期刊栏目: 新材料与新技术
• 页码范围: 84-88
• 页数: 5页
• 分类号: TQ028.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.19817/j.cnki.issn1006-3536.2020.12.021

摘要

以高渗透性聚二甲基硅氧烷(PDMS)为基体,以正硅酸四乙酯修饰四氧化三铁(TEOS@Fe3O4)为磁性基元,采用溶剂挥发法制备了PDMS/TEOS@Fe3O4磁性有机硅膜,研究TEOS修饰作用对磁性有机硅膜氧氮渗透性能的影响.结果表明,经TEOS修饰后的Fe3O4与PDMS之间具有良好界面相容性,PDMS/TEOS@Fe3O4膜的机械性能得到显著提升.与PDMS/Fe3O4膜相比,PDMS/TEOS@Fe3O4膜的O2/N2理想选择性增加;施加外加磁场后,两种磁性膜的O2/N2理想选择性分别提高了16.2％和8.0％.当外加磁场强度为56mT时,PDMS/TEOS@Fe3O4膜的O2渗透系数为1483Barrer,O2/N2理想选择性为2.2.