甲基对硫磷磁性印迹复合光催化剂的制备及其光催化性能研究

• 作者: 焦琳娟 张映珊 宋彩玲
• 来源期刊: 化工新型材料
• 关键词: 分子印迹 磁性 复合光催化剂 四氧化三铁@二氧化硅@二氧化钛 甲基对硫磷
• 年，卷（期）: 2020,（10）
• 所属期刊栏目: 科学研究
• 页码范围: 226-231
• 页数: 6页
• 分类号: O643.36
• 语种: 中文
• DOI: 10.19817/j.cnki.issn1006-3536.2020.10.048

摘要

以自制的Fe3O4@SiO2@TiO2为栽体,甲基对硫磷(MP)为模板分子,甲基丙烯酸(MAA)和4-乙烯基吡啶(4-VP)为功能单体,乙二醇二甲基丙烯酸酯(EGDMA)为交联剂,采用表面分子印迹法制备了磁性分子印迹复合光催化剂TiO2-MPIPs,并对其进行表征和光催化特性研究.结果 表明:当n(MP)∶n(MAA+ 4-VP)∶n(EGDMA)为1∶8∶18,乙烯基改性Fe3O4@SiO2@TiO2用量为33mg时,光催化性能达到最佳.TiO2-MPIPs对模板分子MP具有良好的特异性识别和光催化降解作用,45min内快速达到吸附平衡,最大吸附容量为44.5mg/g,紫外光照射70min,对MP的降解率达到96.8％;与乐果相比,TiO2-MPIPs对MP的光催化降解选择性系数为2.73,是磁性非分子印迹复合光催化剂TiO2-NIPs或未改性Fe3O4@SiO2@TiO2选择性系数的3.10倍、2.55倍.