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低能氨离子/基团扩散对铟锡氧化物薄膜电学性质的影响规律
低能氨离子/基团扩散对铟锡氧化物薄膜电学性质的影响规律
作者:
丁万昱
刘世民
刘智慧
刘超前
姜薇薇
崔云先
巨东英
张鑫
王全
王华林
王楠
赵世平
马艳平
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
铟锡氧化物
择优取向
NHx离子/基团
电学性质
摘要:
有机-无机杂化甲氨铅碘类钙钛矿太阳能电池在制备及使用过程中, 甲氨铅碘层中的甲基铵离子易分解为甲基离子/基团和氨离子/基团, 其中氨离子/基团可以扩散进入铟锡氧化物(indium tin oxide, ITO)透明电极层, 并影响ITO的电学性质. 本文通过低能氨离子束与ITO薄膜表面相互作用, 研究低能氨离子/基团在ITO薄膜表面扩散过程, 及其对ITO薄膜电学性质的影响规律. 研究结果表明, 低能氨离子/基团在ITO薄膜表面扩散过程中, 主要与ITO晶格中的O元素结合形成In/Sn—O—N键. ITO不同晶面的O元素含量不同, 低能氨离子/基团能够在无择优ITO薄膜表面的各个晶面进行扩散, 因此将严重影响其电学性质, 导致无择优ITO薄膜电阻率增加约6个数量级. 但(100)择优取向ITO薄膜的主晶面为(100)晶面, 最外层由In/Sn元素构成, 不含O元素. 因此(100)择优取向ITO薄膜能够有效地抑制低能氨离子/基团扩散, 并保持原始电学性质. 最终, (100)择优取向ITO薄膜有望成为理想的有机-无机杂化甲氨铅碘类钙钛矿太阳能电池用透明电极层材料.
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包裹
分散性
氧气等离子体处理对铟锡氧化物薄膜表面性质的影响
铟锡氧化物
氧气等离子体处理
表面性质
内容分析
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引文网络
相关学者/机构
相关基金
期刊文献
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
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文献信息
篇名
低能氨离子/基团扩散对铟锡氧化物薄膜电学性质的影响规律
来源期刊
物理学报
学科
关键词
铟锡氧化物
择优取向
NHx离子/基团
电学性质
年,卷(期)
2020,(23)
所属期刊栏目
凝聚物质:结构、力学和热学性质
研究方向
页码范围
227-236
页数
10页
分类号
字数
语种
中文
DOI
10.7498/aps.69.20200860
五维指标
传播情况
被引次数趋势
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(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
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共引文献
(0)
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2020(0)
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二级引证文献(0)
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铟锡氧化物
择优取向
NHx离子/基团
电学性质
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
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