作者:
原文服务方: 科技与创新       
摘要:
硅基氮化镓以及碳化硅基镓氮技术多应用于功率半导体器件中,是各个国家争相攻克的尖端技术.基于中国相关专利数据,从专利联合申请、专利权转移、专利许可的维度分析中国硅基氮化镓以及碳化硅基镓氮技术的产学研融合现状和特点.为国内企业和高等院校、科研机构的发展创新提供借鉴.
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质子
氮化镓
位移损伤
Geant4
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 从专利视角浅议中国氮化镓技术的产学研融合
来源期刊 科技与创新 学科
关键词 氮化镓 产学研融合 专利 专利联合申请
年,卷(期) 2020,(14) 所属期刊栏目 创新思维
研究方向 页码范围 81-83
页数 3页 分类号 G644
字数 语种 中文
DOI 10.15913/j.cnki.kjycx.2020.14.031
五维指标
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研究主题发展历程
节点文献
氮化镓
产学研融合
专利
专利联合申请
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
科技与创新
半月刊
2095-6835
14-1369/N
大16开
2014-01-01
chi
出版文献量(篇)
41653
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总被引数(次)
202805
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