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摘要:
GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)器件由于其击穿场强高、导通电阻低等优越的性能,在高达650 V额定电压等级的高效、高频转换器中有着广泛的应用前景.GaN HEMT器件的特性优势与其工艺结构、材料特性密切相关.介绍了耗尽型、增强型GaN HEMT的典型器件结构,并将国内外对结构设计以及材料优化等关键技术问题的研究现状进行了综述,并概括总结了GaN HEMT的技术发展趋势和最新参数指标.
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文献信息
篇名 GaN HEMT电力电子器件技术研究进展
来源期刊 电子与封装 学科 工学
关键词 GaN HEMT p-GaN 增强型 MIS-HEMT
年,卷(期) 2021,(2) 所属期刊栏目 "GaN电子器件与先进集成"专题
研究方向 页码范围 14-23
页数 10页 分类号 TN323+.2
字数 语种 中文
DOI 10.16257/j.cnki.1681-1070.2021.0211
五维指标
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
GaN HEMT
p-GaN
增强型
MIS-HEMT
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子与封装
月刊
1681-1070
32-1709/TN
大16开
江苏无锡市惠河路5号(208信箱)
2002
chi
出版文献量(篇)
3006
总下载数(次)
24
总被引数(次)
9543
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