电致变色器件中WO3薄膜厚度的选择

• 作者: 代强 余刚 刘静 孟政 汪洪
• 来源期刊: 建筑玻璃与工业玻璃
• 学科: 工学
• 关键词: WO3薄膜 电致变色器件 氧化钨薄膜 三氧化钨 光学理论 晶体结构 薄膜厚度 氧化锡
• 年，卷（期）: 2021,（1）
• 页码范围: 12-14
• 页数: 3页
• 分类号: TB3

摘要

WO3(三氧化钨)薄膜厚度的选择对电致变色器件性能有至关重要的作用。通过TFCalc软件理论计算WO3薄膜褪色态、着色态透过光谱及其光学调制幅度变化;通过在FTO(氧化锡掺氟)玻璃上制备氧化钨薄膜,研究分析不同厚度氧化钨晶体结构与光学调制幅度相关性。对比研究发现:WO3厚度的选择应根据着色态透过率和实际的光学调制幅度确定,光学理论计算WO3薄膜的调制幅度有一定的局限性,这与晶态WO3薄膜的结构发生变化有关。