ITO区黑化法修复亮点理论模型及工艺参数分析

• 作者: 吴国东 乔律华 韩海滨 王彬 张少芬 聂竹华 蔡云牧 王贺卫
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 黑化 修复 工艺参数 修复成功率
• 年，卷（期）: 2021,（2）
• 所属期刊栏目: 器件物理及器件制备技术
• 页码范围: 246-257
• 页数: 12页
• 分类号: TN141.9|TP391.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.37188/CJLCD.2020-0213

摘要

本文基于飞秒激光烧蚀机制建立并通过实验验证了ITO区黑化法修复亮点的理论模型,分析了各个工艺参数对修复效果的影响,为亮点不良修复成功率的提升奠定基础.首先通过一系列实验点灯检测、显微镜图片和聚焦离子束(FIB)图片分析结果验证了所创建的修复理论模型;然后利用对比试验分别探究了单脉冲激光单位面积的能量密度e、扫描速度v、激光频率f和光斑大小a等工艺参数对ITO区黑化效果的影响;最后为了深入分析ITO区黑化法的烧蚀机理,提出并验证了囊括所有工艺参数的变量"w",成功地为亮点不良修复成功率的提升提供了理论依据.实验结果表明,a在4.0～10.0μm,e在1.0 mJ/mm2以上,w在4250～12500 mJ/mm2时,ITO烧蚀后的黑化效果均达到了暗点标准(≥95％),且在点灯条件下未产生其他不良.根据实验结果,将该理论模型和工艺参数分析应用到量产,亮点不良修复成功率达到了95.5％.