涡街流量计在四氧化二氮加注系统中的腐蚀产物分析

• 作者: 李彬 韦树峰 吕镖
• 来源期刊: 低温与特气
• 学科: 工学
• 关键词: 涡街流量计 四氧化二氮 加注系统 腐蚀产物
• 年，卷（期）: 2021,（1）
• 所属期刊栏目: 分析与测试
• 页码范围: 34-37,46
• 页数: 5页
• 分类号: TQ117
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-7804.2021.01.008

摘要

航天发射场加注库房数字式涡街流量计在四氧化二氮加注系统中长期使用,会致使其表面形成一定的腐蚀产物,改变其精度与准确性,进而影响加注量.为探讨其腐蚀产物的成分及形成机理,采用FEI场发射电子扫描电镜(SEM)、能谱分析仪(EDAX)和X射线光电子能谱仪(XPS)分别对腐蚀产物的表面形貌、组成含量及其存在形态进行了表征.结果表明,腐蚀表面由内部结合较为致密的黑色和黄色腐蚀产物构成,两者均含有N、O、Cr、Fe、Ni等元素,但黄色腐蚀产物的N含量和O含量相对更高,腐蚀更为严重.腐蚀产物主要以Fe2 O3、Cr2 O3、Ni2 O3等金属氧化物形式存在,腐蚀过程同时含有化学腐蚀和电化学腐蚀,但以化学腐蚀为主.