电化学测试技术在集成电路制程化学机械抛光中的应用现状

• 作者: 吴彤熙 高宝红 郑晴平 王玄石 曲里京 檀柏梅
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 化学
• 关键词: 集成电路 化学机械抛光 电化学测试 开路电位 极化曲线 恒电位 电化学阻抗谱 综述
• 年，卷（期）: 2021,（1）
• 所属期刊栏目: 电子技术
• 页码范围: 54-58
• 页数: 5页
• 分类号: O646|TN305
• 语种: 中文
• DOI: 10.19289/j.1004-227x.2021.01.010

摘要

简述了包括开路电位法、极化曲线法、恒电位法、电化学阻抗谱在内的常规电化学测试技术的原理.总结了近几年内这几种电化学测试技术在化学机械抛光领域研究中的应用现状,展望了未来的发展方向.