石英玻璃的等离子体抛光技术研究现状

• 作者: 屈睿 李朝将 孙元成 张晓强 金鑫 李绍良 左镇
• 来源期刊: 飞控与探测
• 关键词: 石英玻璃 等离子体抛光 离子束抛光 亚表面损伤 残余应力
• 年，卷（期）: 2021,（1）
• 页码范围: 22-35
• 页数: 14页
• 分类号: TN911.73|TP391.9
• 语种: 中文

摘要

具有耐腐蚀、热膨胀系数低等诸多优良物理化学特性的石英玻璃在高性能光学系统中被广泛使用.其要求元件达到纳米级的表面粗糙度,而且没有损伤层和残余应力,因此精加工之后的超精密抛光工序尤为重要.文章介绍了气囊、磁流变、弹性发射、离子束等几种石英玻璃精密抛光方法,侧重阐述了国内外等离子体抛光技术,包括等离子体辅助化学刻蚀、等离子体喷射加工、等离子化学蒸发加工技术的研究进展及取得的成果,并且对等离子体技术的未来发展进行了概述.