我国光掩模玻璃基板的发展现状及趋势

• 作者: 刘志海
• 来源期刊: 玻璃
• 学科: 工学
• 年，卷（期）: 2021,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与综述
• 页码范围: 1-6
• 页数: 6页
• 分类号: TQ171
• 语种: 中文

摘要

1光掩模玻璃基板的定义及种类 1.1光学掩模的定义及分类 1.1.1光学掩模板的定义 光学掩模板,又称光掩模板、掩模板、掩膜版、光掩膜、光刻掩膜版、光罩等,在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构,是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版.光掩模板应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用光掩模板,主要用于集成电路(1C)、平板显示器(FPD)、印刷电路板(PCB)、微机电系统(MEMS)等领域.