热蒸发制备大口径铝膜的膜厚均匀性分析

• 作者: 樊彦峥 潘永强 刘金泽 张达
• 来源期刊: 光学与光电技术
• 关键词: 光学薄膜 铝膜 旋转平面夹具 膜厚均匀性 修正挡板
• 年，卷（期）: 2021,（2）
• 所属期刊栏目: 材料与器件|Material and Devices
• 页码范围: 108-114
• 页数: 7页
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文

摘要

研究了1.1m大口径镀膜机热蒸发制备金属铝膜的膜厚均匀性问题,针对旋转平面夹具分析了夹具高度H以及蒸发源与真空室中心轴距离L对铝膜膜厚均匀性的影响.当L=400mm,H/L=1.10时,膜厚均匀性最好,不均匀性为9.614％,不均匀性随H/L的值增大而增大.当H=500 mm,H/L=1.47时,膜厚均匀性最好,不均匀性为4.487％,不均匀性随H/L的值减小而增大.进而引进了一个修正挡板函数,提出并设计了合适的修正挡板,膜厚均匀性由不加修正挡板时的17.8％改善到3.9％,从而解决铝薄膜厚度均匀性问题.