第二十一讲真空卷绕镀膜

• 作者: 张以忱
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 年，卷（期）: 2021,（1）
• 所属期刊栏目: 真空技术应用系列讲座
• 页码范围: 86-88
• 页数: 3页
• 分类号: O484|TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2021.01.18

摘要

(接2020年第6期86页) 2.2.1 原理 电阻加热蒸发镀膜原理如图3所示.将卷筒状的待镀薄膜基材装在真空蒸镀机的放卷辊上,薄膜穿过导向辊和镀膜冷鼓卷绕在收卷辊上.抽真空,使蒸镀室中的真空度达到4×10-2Pa以上,加热蒸发舟或蒸发坩埚使高纯度的金属或化合物在气化温度下融化并蒸发.启动薄膜卷绕系统,当薄膜运行速度达到设定数值后,打开蒸发源水冷挡板使气态金属或化合物微粒在移动的薄膜基材表面沉积、冷却即形成一层连续而光滑的金属或化合物膜层.通过控制蒸发材料的蒸发速度、薄膜基材的移动速度、在线电阻或光学监测装置以及蒸镀室内的真空度等来控制镀层的厚度,一般电容器镀铝层厚度在250～500?(25～50nm).