板式PECVD设备维护后初期的生产品质提升方案

• 作者: 王贵梅 赵环 刘苗 朱少杰 孙晓凯
• 来源期刊: 太阳能
• 学科: 工学
• 关键词: 多晶硅太阳电池 板式PECVD设备 维护 膜厚 折射率 腐蚀速率 角阀开度
• 年，卷（期）: 2021,（2）
• 所属期刊栏目: 技术应用
• 页码范围: 74-77
• 页数: 4页
• 分类号: TK514
• 语种: 中文
• DOI: 10.19911/j.1003-0417.tyn20200310.02

摘要

以板式PECVD设备维护后的初期在多晶硅片表面镀的氮化硅薄膜为研究对象,分析了其膜厚、折射率、腐蚀速率等数据,以及此种镀膜情况下制备的多晶硅太阳电池的电性能.结果表明:在设备维护后初期(约1 h)镀制的氮化硅薄膜,随着时间的推移,氮化硅薄膜的膜厚不断下降,折射率随之上升,二者分别从第48 min和第56 min开始趋于稳定;将采用设备维护后64 min内制备的氮化硅薄膜的太阳电池的电性能与采用设备维护前64 min内制备的氮化硅薄膜的太阳电池的电性能进行对比后发现,前者的光电转换效率比后者的低0.05％,且设备维护后初期时制备的氮化硅薄膜的腐蚀速率偏高.通过监控角阀开度曲线,待角阀开度绝对值在中心值上下1％的范围内波动后再进行生产,可以避免设备维护后初期镀膜生产的太阳电池不良品的产生,对提高生产线良品率具有一定的指导意义.