光掩模缺陷修补技术

• 作者: 杨长华
• 来源期刊: 集成电路应用
• 关键词: 集成电路制造 光掩模 缺陷修补 离子束修补
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 工艺与制造|Process and Fabrication
• 页码范围: 17-19
• 页数: 3页
• 分类号: TN405|TN470.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.19339/j.issn.1674-2583.2021.04.006

摘要

基于芯片图形特征尺寸越来越小,图形越来越密集,缺陷很难修补.阐述掩模在制作过程中缺陷形成的原因,对掩模缺陷进行分类,掩模修补的方法,包括激光气化法、局部曝光法、离子束修补.