光稳定剂HS-112合成工艺研究

• 作者: 高玉清 耿来红 刘荣 霍利春 杨正东
• 来源期刊: 当代化工
• 学科: 工学
• 关键词: 叔丁基过氧化氢 正辛烷 三氧化钼 氧化 化学反应 合成
• 年，卷（期）: 2021,（1）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 113-116,122
• 页数: 5页
• 分类号: TQ314.257
• 语种: 中文

摘要

以癸二酸二(2,2,6,6-四甲基-四羟基哌啶)酯氮氧自由基(A)为原料,70％叔丁基过氧化氢(B)为氧化剂,正辛烷(C)为溶剂,三氧化钼(D)为催化剂,经一步反应合成光稳定剂HS-112,研究了物料的投料比、催化剂的用量、反应时间、反应温度对反应收率的影响.实验结果表明,光稳定剂HS-112的最佳合成工艺为:n(A):n(B)=1:3,三氧化钼用量为物料A质量的1.8％,反应时间10 h,反应温度125℃,正辛烷140 g(A为0.1 mol时);在上述条件下,光稳定剂HS-112的收率为87.26％.