热流计SiO2热阻层离子束溅射制备及耐热性研究∗

• 作者: 丁玎 张浩 何峰
• 来源期刊: 湘潭大学学报（自然科学学报）
• 关键词: 热流计 离子束溅射 热阻层 SiO2膜 结合强度
• 年，卷（期）: 2021,（2）
• 页码范围: 89-94
• 页数: 6页
• 分类号: O152.1
• 语种: 中文

摘要

薄膜热阻式热流计具有响应速度快、结构微型化以及量程广、输出大等优点,是当前使用最广泛的热流传感器.热阻层SiO2膜层与基底材料的结合性能对于热流计的高可靠性来说十分重要,而膜层特性与溅射沉积参数、后期热处理技术之间密切相关.因此,该文围绕离子束溅射SiO2薄膜作为热流计热阻层材料,对不同镀膜时间、热处理工艺之后膜层的表面成分、形貌以及与基底结合强度进行了研究分析.研究发现,550℃热处理能够有效改善膜层的结合力,离子束溅射制备的SiO2薄膜热阻层在高温循环考核的环境下依然保持了较强的结合力.