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面向微处理器核的片上老化检测模块设计
面向微处理器核的片上老化检测模块设计
作者:
刘帅
虞致国
洪广伟
顾晓峰
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
微处理器
负偏压温度不稳定性
片上老化测量
细粒度
摘要:
为检测负偏压温度不稳定性(NBTI)效应导致的微处理器中组合逻辑路径延迟的增大,设计了一种可感知微处理器核NBTI效应的混合结构检测模块.检测模块包括老化延时探测模块及测量模块,能够准确测量NBTI效应造成的电路延时增量;相比于传统单一的延迟线结构,其面积开销降低40%.所设计的结构在ISCAS与OR1200核上实验,延时测量精度达到94%以上,可为微处理器的可靠性设计提供细粒度的防护.
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文献信息
篇名
面向微处理器核的片上老化检测模块设计
来源期刊
传感器与微系统
学科
工学
关键词
微处理器
负偏压温度不稳定性
片上老化测量
细粒度
年,卷(期)
2021,(2)
所属期刊栏目
设计与制造
研究方向
页码范围
89-91,94
页数
4页
分类号
TN492
字数
语种
中文
DOI
10.13873/J.1000-9787(2021)02-0089-03
五维指标
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微处理器
负偏压温度不稳定性
片上老化测量
细粒度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
传感器与微系统
主办单位:
中国电子科技集团公司第四十九研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-9787
CN:
23-1537/TN
开本:
大16开
出版地:
哈尔滨市南岗区一曼街29号
邮发代号:
14-203
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
9750
总下载数(次)
43
总被引数(次)
66438
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