中国海外专利申请增长的影响因素研究——基于面板负二项模型的实证分析

• 作者: 马凌远 尤航
• 来源期刊: 管理工程师
• 关键词: 海外专利申请 影响因素 面板负二项模型 中国
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 科技管理
• 页码范围: 3-16
• 页数: 14页
• 分类号: G306.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.19327/j.cnki.zuaxb.1007-1199.2021.04.001

摘要

知识产权强国战略背景下,专利"走出去"对我国强化知识产权创造、保护及运用具有重要意义.基于2000-2015年中国海外专利申请数据,利用面板负二项模型实证检验了中国海外专利申请的影响因素,探讨了中国海外专利申请快速增长的原因.研究表明:中国总体研发支出规模、知识产权保护水平对海外专利申请增长具有积极影响,其为中国专利国际化的内因;出口和对外直接投资也对中国的专利流出具有明显的促进作用,相对而言,对外直接投资在其中扮演了更为重要的角色;目的国的市场规模和知识产权保护水平对中国海外专利申请具有积极的影响,但知识产权保护的影响只存在于模仿能力较强的目的国,而对于模仿能力弱的国家该影响并不显著.