基于溅射法集成氧化铱的双模微电极阵列

• 作者: 王琛 王隆春 刘景全
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 关键词: 氧化铱(IrOx) 硅基阵列 溅射 微电极 微电子机械系统(MEMS)
• 年，卷（期）: 2021,（5）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备|Processing, Measurement and Equipment
• 页码范围: 421-425,457
• 页数: 6页
• 分类号: TB381|TN305.93
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2021.05.009

摘要

微电极阵列可在彼此独立的电极点上通过改性材料修饰完成多功能集成,是脑机接口的核心部件.使用微电子机械系统(MEMS)工艺结合溅射、剥离工艺将氧化铱薄膜作为pH响应功能层集成在微电极阵列对应的电极点上,同时研究了氧化铱薄膜在微米尺寸进行图形化的可行溅射参数.进行了微观形貌测试、元素表征和pH响应测试,结果表明成功在对应电极点上集成了均匀性良好的氧化铱薄膜,其对于pH的响应性能优异,具有约为56.52 mV/pH的灵敏度,线性相关度约为0.999.这使集成了氧化铱功能层的微电极阵列有望在体内植入的研究中实现对脑区pH值的观测.