第二十一讲真空卷绕镀膜

• 作者: 张以忱
• 来源期刊: 真空
• 年，卷（期）: 2021,（3）
• 所属期刊栏目: 真空技术应用系列讲座
• 页码范围: 86-88
• 页数: 3页
• 分类号: O484|TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2021.03.17

摘要

2.3 电子束加热蒸发卷绕镀膜 随着薄膜技术的广泛应用,采用电阻加热蒸发已不能满足蒸镀难熔金属和氧化物材料的需要,电阻加热方法的局限性一是来自坩埚、加热体以及各种支撑部件所可能带来的污染;二是电阻加热法的加热功率或温度也受到了一定的限制.因此电阻加热法不适用于高纯或难熔物质的蒸发.电子束蒸发方法正好克服了电阻加热方法的上述两个不足,因而它已成为蒸发法中高速沉积高纯物质薄膜的一种主要的加热方法.但电子束蒸发方法是间接蒸发,需用大功率的电子枪,镀膜温度比普通蒸发高,因此设备较为昂贵,且较为复杂.如果采用电阻加热蒸发能获得所需要的薄膜材料,则一般不使用电子束蒸发.