Ni掺杂W18O49/ITO-PET电致变色薄膜性能研究

• 作者: 朱多银 金志浩 岳君容 张建岭 崔彦斌
• 来源期刊: 光电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 镍掺杂 氧化钨 电致变色薄膜 溶剂热法 柔性基底
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与试制|Research and Trial-manufacture
• 页码范围: 289-294,314
• 页数: 7页
• 分类号: TN389|TB331
• 语种: 中文
• DOI: 10.19453/j.cnki.1005-488x.2021.04.008

摘要

以WCl6和NiCl2?6H2O为钨源和镍源、PVP为表面活性剂、无水乙醇为溶剂,采用溶剂热法制备得到非化学计量比的W18O49和Ni掺杂W18O49纳米线(Ni-W18O49),并利用雾化沉积法将W18O49和Ni-W18O49纳米线喷涂在柔性ITO-PET透明导电基底得到W18O49/ITO-PET和Ni-W18O49/ITO-PET电致变色薄膜.测试结果表明,Ni掺杂使W18O49/ITO-PET电致变色薄膜着色/褪色响应时间由16.5 s/8.2 s减小为10 s/5.8 s,着色效率由56 cm2?C-1增至74cm2?C-1.Ni-W18O49/ITO-PET电致变色薄膜经1 500次充放电后容量保持率仍为70％.Ni掺杂W18O49使W5+和氧空位含量增加,降低电荷转移阻力,从而改善电致变色性能.