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摘要:
苯中痕量噻吩对新工艺下己内酰胺的生产造成影响,工艺要求苯中噻吩控制在0.02mg/kg以下.本文利用气相色谱法(GC)、硫化学发光检测器(SCD),分析检测苯中的痕量噻吩,低浓度下工作曲线的线性相关系数0.9994,检测限0.001 mg/kg,符合ASTM D7011-2015方法要求,满足新型企业生产需要,与相对成熟的火焰光度检测器(FPD)和脉冲式火焰光度检测器(PFPD)比较,具有检测限更低、重复性更好的特点,有较好的应用前景.
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外标法
痕量
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含五氟苯的噻吩并吡咯二酮-苯并二噻吩共轭聚合物的合成及其性能
3,4-噻吩二甲酸
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合成
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内容分析
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文献信息
篇名 苯中痕量噻吩检测分析研究
来源期刊 福建分析测试 学科
关键词 噻吩 色谱 硫化学发光检测器
年,卷(期) 2021,(3) 所属期刊栏目 技术交流|Technical Communication
研究方向 页码范围 39-44
页数 6页 分类号 O657.7
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1009-8143.2021.03.08
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研究主题发展历程
节点文献
噻吩
色谱
硫化学发光检测器
研究起点
研究来源
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研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
福建分析测试
双月刊
1009-8143
35-1246/T
大16开
福州市北环中路61号
1992
chi
出版文献量(篇)
1788
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1
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