CIS生产工艺对暗电流(Dark Current)性能的影响

• 作者: 秋沉沉 魏峥颖 钱俊 孙昌
• 来源期刊: 集成电路应用
• 关键词: 集成电路制造 CMOS图形传感器CIS 暗电流 干法刻蚀 热制程 自对准硅化物阻挡层SAB
• 年，卷（期）: 2021,（8）
• 所属期刊栏目: 工艺与制造|Process and Fabrication
• 页码范围: 16-19
• 页数: 4页
• 分类号: TN405
• 语种: 中文
• DOI: 10.19339/j.issn.1674-2583.2021.08.007

摘要

研究工艺对CIS图像传感器(CMOS image sensor)的影响.通过隔离注入的优化、沉积薄膜膜质的优化、干法刻蚀工艺的优化及热制程的优化可减少硅氧界面载流子与声子群的散射,可大大减少Si-SiO2界面附近陷阱,从而降低CIS传感器的暗电流(Dark Current,DC).实验数据表明,暗电流可改善30％～82.5％,可适用于不同像素尺寸(0.7～18μm)的CIS产品.