光掩膜版用低羟基高纯石英玻璃的研究

• 作者: 陈娅丽 吴椿烽 钱宜刚 汤明明 陈京京 顾铃铃 缪丽华
• 来源期刊: 玻璃
• 关键词: 气相沉积工艺 CVD法 等离子沉积工艺 羟基 石英玻璃
• 年，卷（期）: 2021,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与综述
• 页码范围: 6-10
• 页数: 5页
• 分类号: TQ171
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-1987.2021.03.002

摘要

介绍了采用不同原材料由一步法工艺所制备的石英玻璃的方法及其光学性能与杂质含量,基于羟基含量高、尺寸小等缺点,通过优化工艺,以两步法(沉积、脱羟烧结)制备的石英玻璃更具有优良的性能.检测结果表明,两步法气相沉积工艺制备的石英玻璃具有更低的羟基含量≤1×10-6,以及良好的透过率85％以上,完全满足高端光电技术领域的应用需求.