K2ZrF6含量对ZrH1.8表面微弧氧化阻氢膜层的影响

• 作者: 杜培 闫淑芳 陈伟东 李世江 杨少辉
• 来源期刊: 稀有金属
• 关键词: ZrH1.8 微弧氧化 阻氢膜层 氟锆酸钾
• 年，卷（期）: 2021,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文|Papers
• 页码范围: 27-33
• 页数: 7页
• 分类号: TQ174.453
• 语种: 中文
• DOI: 10.13373/j.cnki.cjrm.XY19060001

摘要

采用微弧氧化技术在ZrH1.8表面制备阻氢膜层,研究在Na5P3O10-NaOH-Na2EDTA电解液体系中K2ZrF6含量对膜层组织结构和阻氢性能的影响.借助场发射扫描电子显微镜(FESEM)和X射线衍射仪(XRD)分析膜层的微观结构和物相组成.采用涂层测厚仪对膜层的厚度进行测量,通过真空脱氢实验表征膜层的阻氢性能.相比未加入K2ZrF6时,电解液中添加适量K2ZrF6有助于改善膜层的表面质量,减少膜层中微孔和裂纹等缺陷的出现.XRD分析表明,不同K2ZrF6浓度时ZrH1.8表面微弧氧化制备的膜层均主要由m-ZrO2,t-ZrO2和少量c-ZrO2相组成.膜层厚度和氢渗透降低因子(PRF)随K2ZrF6浓度的增加均呈先增大后减小趋势,当K2ZrF6为4 g·L-1时,膜层的厚度最大为68.7 pm,PRF最大为13.1,且膜层中大尺寸缺陷较少,添加K2ZrF6制备的陶瓷膜的阻氢性能均得到提高.K2ZrF6添加剂的加入可以使ZrH1.8表面微弧氧化膜层的厚度增大,致密性增强,进而阻氢性能提高,膜层表面质量也得到改善.