聚变堆第一壁材料溅射装置真空系统设计研究

• 作者: 王俊儒 余耀伟 曹斌 庄会东 胡建生
• 来源期刊: 真空
• 关键词: 材料溅射实验装置 材料辐照 真空系统 抽速
• 年，卷（期）: 2021,（5）
• 所属期刊栏目: 真空获得与设备|Vacuum Acquisition System
• 页码范围: 32-36
• 页数: 5页
• 分类号: TL62+8|TB75
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2021.05.04

摘要

直线等离子体装置(Linear Plasma Device,LPD)是研究托卡马克上边界等离子体与材料相互作用的重要平台.本文针对新建LPD的真空系统设计研制开展了相关研究.该真空系统设计为两级隔断式结构,等离子体放电和材料预处理可以在各自真空腔室同步进行、互不干扰.通过真空测试实验,真空控制系统运行稳定,短时间烘烤后系统极限真空达1.4×10-5Pa,满足LPD对洁净真空环境的要求.