光学移频超分辨成像技术进展

• 作者: 郝翔 杨青 匡翠方 刘旭
• 来源期刊: 光学学报
• 关键词: 成像系统 超分辨 移频 光场调制
• 年，卷（期）: 2021,（1）
• 所属期刊栏目: 成像系统|Imaging Systems
• 页码范围: 137-153
• 页数: 17页
• 分类号: O439
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS202141.0111001

摘要

光学显微镜具有无损、样品友好、速度快等优点,一直是人类探索微观世界的主要手段.但是,由于受到衍射极限限制,长期以来,光学成像系统的分辨率最高仅能达到可见光半波长量级,逐渐成为科学技术发展的桎梏.对于荧光标记样品,可以利用荧光超分辨光学显微成像技术打破光学衍射极限,填补电子显微镜(约为1 nm)和普通可见光学显微镜(200～250 nm)之间的空缺.然而,对于大多数样品特别是非荧光标记样品而言,利用现有技术进行超分辨成像依旧存在相当难度.近年来,科研人员从合成孔径成像原理出发,提出了光学移频超分辨成像方法,开辟了光学超分辨成像的新思路.光学移频超分辨成像不拘泥于荧光非线性效应的限制,兼具非荧光标记样品以及荧光标记样品的超分辨成像能力,而且因为其成像速度快、样品普适性高和光毒性低等优点,在材料学、生物学和医学等领域展现了很好的应用前景.本文从原理和方法上详细综述了移频超分辨光学显微成像技术,并对未来发展方向进行了评述和展望.