基于双向LSTM和注意力机制的DNA N4-甲基胞嘧啶修饰位点识别

• 作者: 崔鼎
• 来源期刊: 软件
• 关键词: 4mC位点 注意力机制 双向LSTM 3-Mer ID特征
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 设计研究与应用
• 页码范围: 96-100
• 页数: 5页
• 分类号: TP391.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-6970.2021.04.030

摘要

目的:DNA N4-甲基胞嘧啶(4mC)修饰是原核DNA中重要的表观遗传修饰,因为它在调节DNA复制和保护宿主DNA免受降解等多种生物学过程中起着至关重要的作用.因此,4mC位点的准确鉴定有助于深入研究其生物学功能和机制.然而4mC位点的实验鉴定是费时且昂贵的,特别是考虑到基因序列的快速累积,急需找到有效的计算方法加以改进.在本研究中,方法:我们针对上述问题将CNN,Attention机制和双向LSTM相结合,构建了一个多层深度学习预测系统用于识别DNA N4-甲基胞嘧啶修饰位点.结论:基于注意力机制的深度学习框架不仅能快速有效处理数据,同时也能提高识别结果准确度,提升识别效率.