频率、占空比及其交互作用对镁合金微弧氧化膜层结构和耐蚀性的影响

• 作者: 张睿峰 马颖 孙乐 王占营 吴雄飞 高唯
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: AM60B镁合金 微弧氧化 频率 占空比 交互作用 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2021,（1）
• 所属期刊栏目: 腐蚀与防护
• 页码范围: 375-382,412
• 页数: 9页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2021.01.034

摘要

目的 对频率、占空比及其交互作用对微弧氧化膜层性能的影响,既进行定性探究,又进行定量分析.方法 采用正交试验方法,在已优化的硅酸盐体系中,以AM60B镁合金为基体制备微弧氧化膜层.通过正交试验极差分析与方差分析,得到频率、占空比及其交互作用对膜层性能影响的主次顺序和最佳因素水平搭配,以及它们对膜层性能影响的显著性.采用数字式涡流测厚仪、SEM和XRD分别表征微弧氧化膜层的厚度、微观形貌与物相.以点滴试验与动电位极化曲线测试膜层的耐蚀性.结果 占空比对膜层性能的影响大于频率,且占空比对膜层的厚度、点滴耐蚀性和电化学耐蚀性有非常显著的影响.频率和占空比之间的交互作用对膜层厚度、点滴耐蚀性有显著性影响,对电化学耐蚀性有着非常显著的影响.频率为1800 Hz、占空比为40％时,膜层的点滴耐蚀性最佳;频率为1800 Hz、占空比为20％时,膜层的电化学耐蚀性最好.结论 随着占空比增大,膜层厚度增大,点滴耐蚀性更好;随着频率的提高,膜层的孔隙率更小、致密性更好,电化学耐蚀性显著得到提升.频率与占空比不仅会单独影响膜层的性能,它们之间的交互作用对膜层更有着不可忽视的影响.筛选出的最佳配方也为将来的进一步优化指明了方向.