光刻设备中光学系统的温压控制研究

• 作者: 王明
• 来源期刊: 集成电路应用
• 关键词: 集成电路制造 换热 温度控制 压力控制
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 工艺与制造|Process and Fabrication
• 页码范围: 20-21
• 页数: 2页
• 分类号: TN405
• 语种: 中文
• DOI: 10.19339/j.issn.1674-2583.2021.04.007

摘要

阐述光刻设备中光学系统的温压控制,它融合了先进温度与压力控制算法、小型流体管路冷却与稳流技术等多项先进技术,能够为系统内的光学组件提供温度精度优于±0.02℃,压力控制精度优于±3Pa的受控洁净气体,是解决光刻设备中光学系统相关性能的关键.