高纯氯化氢制备技术研究进展

• 作者: 张征 陈辉 张园园 杨典 刘凤华
• 来源期刊: 中国检验检测
• 关键词: 集成电路产业 高纯氯化氢 制备 技术提升
• 年，卷（期）: 2021,（3）
• 所属期刊栏目: 学术研究
• 页码范围: 13-15
• 页数: 3页
• 分类号: TB97
• 语种: 中文
• DOI: 10.16428/j.cnki.cn10-1469/tb.2021.03.004

摘要

高纯氯化氢用途广泛,不仅是集成电路生产中硅片刻蚀、钝化、外延、气相抛光、吸杂和洁净处理等工艺的重要材料,也可用于金属冶炼,光导通讯和科学研究等领域.近年来,随着集成电路产业的飞速发展,对高纯氯化氢的需求量大增的同时,对于产品纯度的要求也是越来越高.本文主要从氯化氢的理化性质、用途及主要的制备方法人手,对目前几种常用的氯化氢的制备工艺技术及研究进展进行总结,以期对我国高纯氯化氢的制备和技术提升提供参考.