硅铝酸盐分子筛对HC1电子气体的深度除水性能研究

• 作者: 叶向荣 张广第 叶素芳 夏添 周井森 张云峰 廖进 刘俊明
• 来源期刊: 现代化工
• 学科: 工学
• 关键词: 氯化氢 电子气体 硅铝酸盐 分子筛 深度除水
• 年，卷（期）: 2021,（1）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 103-107,112
• 页数: 6页
• 分类号: TQ117
• 语种: 中文
• DOI: 10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2021.01.021

摘要

耐HC1和水协同腐蚀、低二次杂质释出是吸附材料用于HC1电子气体深度除水的先决条件.在考察了一系列工业化硅铝酸盐分子筛的耐蚀性、杂质释出和真实HC1电子气体环境下的深度除水性能后证实,硅铝酸盐分子筛的耐蚀性和除水性能与硅铝摩尔比(SiO2/Al2O3摩尔比)密切相关.硅铝摩尔比为2的分子筛耐蚀性较差,硅铝摩尔比为16～360的分子筛均具有较好的耐蚀性;硅铝摩尔比介于2～300之间的分子筛可将HC1电子气体中约2.pμL/L水分脱除至130～200nL/L,除水效率与速度均随硅铝摩尔比增加呈下降趋势.根据上述规律开发的MS-1分子筛可脱除HC1电子气体中的水分至约160 nL/L,MS-1分子筛经改性后则可将水分除至＜100 nL/L,且对HC1中的金属离子无显著影响.