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1550 nm大功率低噪声分布反馈激光器芯片设计
1550 nm大功率低噪声分布反馈激光器芯片设计
作者:
武艳青
车相辉
张磊
赵润
曹晨涛
董风鑫
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
分布反馈(DFB)
波导结构
注入水平
高功率
低相对强度噪声(RIN)
摘要:
设计了一种1550 nm波长分布反馈(DFB)激光器芯片,分析了有源区材料和波导结构对芯片参数的影响.分析了影响输出功率和相对强度噪声(RIN)的因素,并进行了实验对比.通过对芯片材料结构和波导结构的优化设计提升了芯片效率、降低了RIN;通过优化腔长与量子阱总增益之间的匹配参量及对光波导的优化设计,提高了芯片注入饱和点;通过提升注入水平提高了芯片输出功率.芯片测试结果显示,25℃时阈值电流为13 mA,斜率效率为0.38 W/A,输出功率为102 mW@300 mA,边模抑制比为51 dB@50 mW,RIN为-160 dB/Hz@300 mA.该芯片具备高输出功率、低RIN、低阈值电流、高斜率效率的特点.
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篇名
1550 nm大功率低噪声分布反馈激光器芯片设计
来源期刊
半导体技术
学科
关键词
分布反馈(DFB)
波导结构
注入水平
高功率
低相对强度噪声(RIN)
年,卷(期)
2021,(9)
所属期刊栏目
半导体器件|Semiconductor Devices
研究方向
页码范围
705-711
页数
7页
分类号
TN248.4
字数
语种
中文
DOI
10.13290/j.cnki.bdtjs.2021.09.008
五维指标
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
分布反馈(DFB)
波导结构
注入水平
高功率
低相对强度噪声(RIN)
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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