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Ce掺杂Bi2S3/Fe2O3异质结的制备及其光电性能
Ce掺杂Bi2S3/Fe2O3异质结的制备及其光电性能
作者:
周威
谭海军
黎燕
王家钰
钟福新
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
异质结
Ce掺杂Bi2S3
Fe2O3
光电性能
水热法
薄膜
摘要:
采用旋涂法与水热法在掺氟二氧化锡(FTO)上制备了Ce掺杂Bi2S3/Fe2O3(Ce-Bi2S3/Fe2O3)异质结,对样品的组成、形貌及其光电性能进行了研究分析.结果 显示,Ce-Bi2S3/Fe2O3的X射线衍射(XRD)图谱中各衍射峰位与Bi2S3/Fe2O3相似,无新的相产生,但在2θ为24.92°(130)与28.65°(211)的衍射峰强度有所降低,而在2θ为35.65°(110)时有所增强;在Ce-Bi2S3/Fe2O3的X射线能谱(EDS)中发现了Ce元素.光电性能测试结果表明,在模拟太阳光的照射下Ce-Bi2S/Fe2O3的光电压为0.347 V,比Bi2S3/Fe2O3 (0.281 V)提高了23.5%;光电流密度达到2.31 mA·cm-2,比Bi2S3/Fe2O3 (0.53 mA·cm-2)提高了约3.36倍;电化学阻抗谱(EIS)显示,在光照下Ce-Bi2S3/Fe2O3具有最低的界面阻抗,表明Ce-Bi2S3/Fe2O3中的载流子被更有效地分离和转移.
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文献信息
篇名
Ce掺杂Bi2S3/Fe2O3异质结的制备及其光电性能
来源期刊
半导体技术
学科
关键词
异质结
Ce掺杂Bi2S3
Fe2O3
光电性能
水热法
薄膜
年,卷(期)
2021,(9)
所属期刊栏目
半导体制备技术|Semiconductor Fabricating Technologies
研究方向
页码范围
719-724
页数
6页
分类号
TN305.5|TB383.1
字数
语种
中文
DOI
10.13290/j.cnki.bdtjs.2021.09.010
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异质结
Ce掺杂Bi2S3
Fe2O3
光电性能
水热法
薄膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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