SU—8微小网孔阵列结构的形貌优化工艺研究

• 作者: 李令英 张慧 陈超 吴其鑫 钱波
• 来源期刊: 传感器与微系统
• 关键词: SU—8光刻胶 光刻 微机电系统(MEMS) 小液滴 雾化
• 年，卷（期）: 2021,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与探讨|Research & Approach
• 页码范围: 12-15
• 页数: 4页
• 分类号: TP212|TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.13873/J.1000-9787(2021)03-0012-04

摘要

研究了曝光剂量对于小孔成型孔径的影响.实验中发现由于SU—8为负性光刻胶,曝光聚焦条件控制不佳会导致倾角较大的倒梯形结构,不利于液体喷射.为了实现陡直的图形结构,深入研究了衬底和紫外曝光焦平面的相对位置(散焦量),对于SU—8光刻胶图形边界倾角的影响机制.研究发现,当散焦量从-0.6μm变化到0.2μm时,SU—8光刻胶的图形边界的倾角从82.3°上升到90°再下降到88.4°,采用最优的90°图形倾角SU—8光刻条件应用于微小网孔的制作中,可以得到微网孔最优化倾角为89°,有利于液体从网孔中出射.应用SU—8光刻工艺,最终可实现最小孔径约3μm,总厚度约20μm,分布周期为300 dpi,均匀分布,一致性好的微小网孔片样品.该研究将有利于超小液滴雾化网孔片在电子烟及医学领域的应用.