Cr及Cr-Ni掺杂对不同偏压下TiAlN薄膜性能的影响

• 作者: 梁伟忠 王成磊 张可翔 梁朝杰 谢映光 林德民
• 来源期刊: 材料保护
• 关键词: 多弧离子镀 磁控溅射 偏压 掺杂 Cr Ni TiAlN薄膜
• 年，卷（期）: 2021,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺探讨
• 页码范围: 76-80
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文

摘要

为了使4Cr13不锈钢表面性能得到更好的优化和获得镀膜最佳的偏压工艺,在不同的偏压工艺下,采用多弧离子镀技术和磁控溅射技术在4Cr13不锈钢表面沉积掺杂Cr和同时掺杂Cr、Ni的TiAlN薄膜.采用附着力自动划痕仪研究不同偏压条件下薄膜与基体的结合力,采用扫描电子显微镜观察和分析薄膜的表面形貌,采用XRD技术检测薄膜的相结构,采用显微硬度计测量薄膜的显微硬度.结果表明:适当的偏压可以提高薄膜的硬度和结合力,在偏压为-250 V时,薄膜的表面硬度达到最大值2 259 HV0.1 N,结合力为36 N;并且掺杂Ni元素能够起到增强膜基结合力的效果.