石墨烯薄膜技术发展综述 ——基于DII数据库的分析

• 作者: 梁燕 钟书华
• 来源期刊: 科技创业月刊
• 关键词: 石墨烯薄膜 专利分析 发展波动
• 年，卷（期）: 2021,（3）
• 所属期刊栏目: 产业技术
• 页码范围: 61-67
• 页数: 7页
• 分类号: G306
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-2272.202011017

摘要

通过对石墨烯薄膜技术专利数量的时间序列统计,形成技术发展趋势图,分析石墨烯薄膜技术的发展波动规律.研究表明,石墨烯薄膜技术总体态势呈现上升式循环发展,专利数量逐年增长;波动特征主要表现为大涨大落,波长较短,波幅逐步扩大.发展波动受政府专项计划、技术突破点、研究主体数量变化和技术应用领域拓展等因素影响.构建石墨烯薄膜技术发展波动周期预测模型,使用现有的专利数据,对石墨烯薄膜技术未来10年的发展趋势进行合理预测,为制定石墨烯薄膜技术战略和产业政策提供参考.