真空断路器弧后鞘层发展过程仿真分析

• 作者: 耿钰翔 刘晓明 陈海 姜文涛 李培源 张煦松
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 关键词: 电弧等离子体 真空断路器 鞘层 流体动力学
• 年，卷（期）: 2021,（7）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 626-631
• 页数: 6页
• 分类号: TM561
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjvst.202008037

摘要

以真空断路器弧后鞘层发展过程为对象,采用等离子体流体力学模型,求解电子、离子密度和平均电子能量的漂移扩散方程和耦合电场的泊松方程,引入粒子间碰撞反应,仿真分析其弧后介质恢复变化和鞘层发展阶段电子和离子的空间分布、密度分布以及间隙电势分布.采用对比分析法,研究不同初始条件对鞘层发展的影响,结果表明:在保持其余参数不变的条件下,暂态恢复电压(TRV)斜率和间隙轴向长度均与鞘层发展速度呈正相关,初始等离子体密度和弧后金属蒸气压强均与鞘层发展速度呈负相关.