LED用图形化蓝宝石衬底的光刻工艺优化

• 作者: 潘春荣 刘云祥 谢斌晖 陈铭欣
• 来源期刊: 传感器与微系统
• 关键词: 图形化蓝宝石衬底 光刻工艺优化 生产效率
• 年，卷（期）: 2021,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与探讨|Research & Approach
• 页码范围: 56-59
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.13873/J.1000-9787(2021)01-0056-04

摘要

基于对单片衬底曝光场分布规律的研究,建立了曝光场分布优化的数学模型,推导出计算单片衬底曝光场数目及曝光场顶点坐标值的解析表达式;根据曝光场顶点与衬底中心点之间的关系,开发了优化衬底曝光场分布的算法;将该算法应用于实际曝光加工过程,结果表明:曝光场数量减少了近10％,提高了光刻机的生产效率.