AZ31镁合金表面低偏压磁控溅射TiAlN薄膜的结构与耐蚀耐磨性能

• 作者: 曹慧 张发 郭玉利
• 来源期刊: 材料保护
• 关键词: AZ31镁合金 低偏压调控 TiAlN薄膜 磁控溅射 结构 性能
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 工艺探讨
• 页码范围: 118-122
• 页数: 5页
• 分类号: TG174
• 语种: 中文

摘要

针对镁合金不抗蚀、不耐磨2大问题,采用直流磁控溅射的方法,通过对基体施加偏压调控,在AZ31镁合金表面制备了TiAlN薄膜.借助XRD和SEM等方法研究了薄膜的微观结构,通过电化学工作站和销盘式摩擦磨损试验机评估了薄膜的耐腐蚀和耐磨性能.结果 表明:施加偏压后的镀膜基体结构发生很大变化,薄膜由岛状生长模式转变为层状生长模式,由等轴晶转变为柱状晶结构.当偏压增大到-30 V后的薄膜开始在(111)择优生长,薄膜主要为柱状晶结构.镀膜后基体的腐蚀电位明显提高,腐蚀电流密度下降了2个数量级,表明其具有良好的耐蚀性能,-30 V偏压的薄膜的耐腐蚀性能最佳.薄膜的摩擦系数在0.19 ～ 0.30范围,磨损率在10-6 mm3/(N·m)数量级,薄膜的摩擦系数和磨损率从小到大对应的偏压依次为-30 V＜-15 V＜-45 V＜0 V.