不同组合配位剂对化学镀镍-钨-磷合金的影响

• 作者: 吕小虎 沈岳军 苏琪 姚助 刘定富
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 关键词: 镍-钨-磷合金 化学镀 配位剂 沉积速率 显微硬度 孔隙率
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 镀覆技术|Plating Technology
• 页码范围: 263-268
• 页数: 6页
• 分类号: TQ153.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.19289/j.1004-227x.2021.04.004

摘要

以柠檬酸钠为主要配位剂,乳酸、甘氨酸、硫酸铵分别为辅助配位剂,在硬铝上二次浸锌后化学镀Ni-W-P合金.基础镀液和工艺条件为:NiSO4·6H2O 20 g/L,Na2WO4·2H2O 20 g/L,NaH2PO2·H2O 30 g/L,CH3COONa·3H2O 20 g/L,硫脲2 mg/L,pH 8.0,温度85°C,时间1 h.研究了不同配位剂组合对化学镀Ni-W-P合金沉积速率及镀层显微硬度和孔隙率的影响.结果表明,使用30 g/L柠檬酸钠+10 mL/L乳酸时,所得镀层的孔隙率最低,为0.63个/cm2;使用30 g/L柠檬酸钠+10 g/L甘氨酸时,镀层的显微硬度较单一使用柠檬酸钠时有所提高;使用30 g/L柠檬酸钠+25 g/L硫酸铵时,沉积速率最高,为14.69 mg/(cm2·h),镀层的显微硬度高达786.9 HV.