磷化铟量子点材料的制备及应用前景

• 作者: 袁斌霞 方欣怡 蔡晓东 王道累 朱瑞 曹盛 刘建峰
• 来源期刊: 功能材料
• 关键词: 磷化铟 表面包裹 掺杂 应用 功能材料
• 年，卷（期）: 2021,（3）
• 所属期刊栏目: 综述·进展|Review & Advance
• 页码范围: 3043-3049,3066
• 页数: 8页
• 分类号: TB34
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2021.03.006

摘要

半导体纳米晶具有量子尺寸效应和独特的光学性质,可广泛地应用在光电器件、生物标记、太阳能电池、光催化等方面,因此半导体纳米晶成为越来越多研究者研究的热点.但在诸多的应用限制因素中,高性能的QDs材料(Ⅱ-Ⅵ或Ⅳ-Ⅵ)通常含有镉或铅等剧毒的元素,批量生产和使用这类材料不仅对人体有着极大的伤害,还会引起环境和生态问题.因此低毒性能的QDs材料的设计和研发是目前研究的前沿之一.研究人员通过控制反应条件、表面包裹以及掺杂等对磷化铟(InP)材料的性能进行调控,使之能够更好地应用于各个领域之中.