偏压频率对类金刚石膜制备质量的影响研究

• 作者: 朱家诚 吴建波 Vladimir A.Levchenko 王守国
• 来源期刊: 工具技术
• 关键词: 类金刚石 多弧离子镀 偏压频率 薄膜硬度
• 年，卷（期）: 2021,（7）
• 所属期刊栏目: 试验与研究
• 页码范围: 44-48
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.4|TH140.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-7008.2021.07.008

摘要

利用多弧离子镀技术制备类金刚石膜,研究不同偏压频率对类金刚石膜组成和性能的影响.采用扫描电镜、拉曼光谱仪、X射线光电子能谱(XPS)和纳米压痕仪对类金刚石膜进行分析,结果表明:偏压频率对类金刚石沉积的膜厚没有影响,但沉积粒子团簇尺寸随着偏压频率的增大而减小;当偏压频率为3kHz时,沉积粒子团聚严重且颗粒较大,表面质量较差.经类金刚石膜拉曼光谱分析得出:低频时的ID/IG比高频时低,XPS结果进一步证明偏压低频沉积类金刚石膜的SP3含量高于高频区.纳米压痕测试结果表明,薄膜硬度相同时低频区优于高频区.相关结果为设计制备类金刚石膜提供了新的思路.