图案化In2O3:Sn薄膜制备及显影剂对图案制备的影响研究

• 作者: 任洋 贺海燕 赵高扬 王允威
• 来源期刊: 功能材料
• 关键词: ITO薄膜 图案化 溶胶-凝胶法 显影剂
• 年，卷（期）: 2021,（3）
• 所属期刊栏目: 研究·开发|Research & Development
• 页码范围: 3092-3097
• 页数: 6页
• 分类号: TB332
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2021.03.013

摘要

功能薄膜的图案化是微电子加工中不可或缺的工序,目前已经成为制约我国微型化集成电路发展的关键因素.本研究以制备低成本且高质量的图案化In2O3:Sn薄膜为目的,摒弃常规且工艺复杂的干法刻蚀或湿法刻蚀的研究思路,转而向一种化学修饰的溶胶凝胶技术探索.利用化学修饰后的纳米级溶质颗粒的紫外感光特性,以及曝光前后溶质颗粒在有机溶剂中发生的溶解度变化,通过溶胶凝胶工艺成膜,后经曝光、显影、热处理等工序,形成图案化的In2O3:Sn薄膜.重点探索了显影剂配方对薄膜图案制备的影响规律.该方法去除了包含光刻胶制备、剥离以及刻蚀等一系列复杂工序,薄膜图案化制备简单且质量较高,是一种新的值得继续探究并广泛推广的薄膜图案化技术.